埋め込み層などのパターンがある基板の上にシリコンをエピタキシャル成長させたとき、表面に現れる段差の位置が下のパターンからずれたり、形がゆがんだりする現象を何と呼ぶか。

正解：A. パターンシフト(パターンずれ)

エピ成長では、結晶面の方位によって成長速度が異なるため、段差の位置が成長とともに横にずれたり(パターンシフト)、形がくずれたり(パターン変形)します。後の露光工程で下の層に位置を合わせるときに誤差の原因になるため、成長条件や面方位の選び方で抑えます。

• A. 正しい。段差の位置がずれる現象です。
• B. ローディング効果は、加工する面積によってエッチングや成膜の速度が変わる現象です。
• C. マイクロローディングは、パターンの密度などによって局所的にエッチング速度が変わる現象です。