エピタキシャル成長
LSIやパワーデバイス用のシリコンエピウエハで、エピタキシャル層の厚さとして一般的な範囲はどれか。
- A数nm程度
- B数µm〜数十µm程度
- C数mm程度
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正解：B. 数µm〜数十µm程度
ロジックやイメージセンサ用のエピ層は数µm程度、高耐圧のパワーデバイス用では数十µm以上になることもあります。厚さ約775 µmのウエハ本体に比べるとごく薄い層です。
- A. 数nmは量子井戸などの極薄の層の厚さです。
- B. 正しい。数µm〜数十µmが一般的です。
- C. 数mmはウエハ本体よりも厚く、エピ層の厚さではありません。