Methode om de laagweerstand van een wafer of dunne film te bepalen: stroom door de twee buitenste van vier in een rechte lijn geplaatste naalden en meting van de spanning over de twee binnenste.
Japanse benaming: 四探針法
Vakgebied: Metrologie en analyse
AFM (atomic force microscope) CD-SEM Defectinspectieapparaat EDX (energiedispersieve röntgenspectroscopie) Ellipsometrie FIB (focused ion beam) SEM (scanning-elektronenmicroscoop) SIMS (secundaire-ionenmassaspectrometrie) TEM (transmissie-elektronenmicroscoop) TXRF (total reflection X-ray fluorescence)