Quelle solution aqueuse est couramment utilisée pour le développement des résines photosensibles ?

Réponse : A. Une solution aqueuse de TMAH (hydroxyde de tétraméthylammonium)

Le développement des résines positives utilise comme standard industriel une solution aqueuse de TMAH à 2,38 % (environ 0,26 N). Les zones rendues solubles en milieu alcalin par l'exposition se dissolvent et le motif apparaît. L'uniformisation de la concentration rend la vitesse de développement facilement reproductible d'une usine à l'autre. L'acide chlorhydrique et l'acide fluorhydrique sont des acides sans action de développement des résines. Il existe aussi un développement négatif, qui dissout les zones non exposées avec un solvant organique.