Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke gebruikelijke maatstaf wordt gebruikt voor de zuiverheidsbewaking van ultrazuiver water in de halfgeleiderproductie?

  1. AKleurintensiteit
  2. BSpecifieke weerstand (resistiviteit)
  3. CViscositeit
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Specifieke weerstand (resistiviteit)

Hoe minder opgeloste ionen in water, hoe slechter het stroom geleidt, dus de zuiverheid van ultrazuiver water wordt beheerd met de specifieke weerstand. De theoretische bovengrens, bepaald door alleen de ionisatie van water zelf, is ca. 18,2 MΩ·cm bij 25 °C, en ultrazuiver water voor halfgeleiders wordt dicht bij deze waarde gehouden. Omdat de specifieke weerstand niet reageert op andere verontreinigingen dan ionen, worden TOC (totaal organisch koolstof), deeltjes, opgeloste zuurstof en silica apart op ppb-niveau bewaakt. Aan kleur of viscositeit is het verschil in zuiverheid niet te zien.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welk gas wordt hoofdzakelijk gebruikt voor het droog etsen van siliciumoxide (SiO2)?
  2. Welke uitspraak over het target dat bij sputteren wordt gebruikt is juist?
  3. Welke combinatie van hoofdbestanddelen van chemisch versterkte fotoresist is juist?
  4. Welke uitspraak over de kenmerken van fosfine (PH3) en arsine (AsH3), die worden gebruikt voor het inbrengen van n-type onzuiverheden, is juist?
  5. Wat is het belangrijkste gebruik van stikstoftrifluoride (NF3)?