Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

Welke waarde is het meest geschikt als richtwaarde voor de zuiverheid die van polykristallijn silicium (polysilicium) als grondstof voor halfgeleiders wordt gevraagd?

  1. Aca. 99 %
  2. Bca. 99,99 %
  3. Cca. 99,999999999 % (11N)
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. ca. 99,999999999 % (11N)

Voor polykristallijn silicium voor halfgeleiders is een zuiverheid van de klasse eleven nine (11N) vereist, met elf negens, waarbij de onzuiverheden in totaal slechts ca. 0,01 ppb bedragen. Zelfs zeer kleine hoeveelheden metaalonzuiverheden verkorten de levensduur van ladingdragers en vergroten de lekstroom. De grondstof wordt gemaakt met het Siemens-proces, waarbij trichloorsilaan met waterstof wordt gereduceerd en afgezet. Voor zonnecellen volstaat ca. 6N tot 9N, maar 99 % of 99,99 % is voor halfgeleiders volstrekt onvoldoende.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Procesmaterialen (gassen, chemicaliën)

  1. Welke gebruikelijke maatstaf wordt gebruikt voor de zuiverheidsbewaking van ultrazuiver water in de halfgeleiderproductie?
  2. Welk gas wordt hoofdzakelijk gebruikt voor het droog etsen van siliciumoxide (SiO2)?
  3. Welke uitspraak over het target dat bij sputteren wordt gebruikt is juist?
  4. Welke combinatie van hoofdbestanddelen van chemisch versterkte fotoresist is juist?
  5. Welke uitspraak over de kenmerken van fosfine (PH3) en arsine (AsH3), die worden gebruikt voor het inbrengen van n-type onzuiverheden, is juist?