산화와 확산

실리콘의 열처리에서 확산이 비교적 느려 얕은 접합을 만들기 쉬운 n형 불순물은?

  1. A붕소(B)
  2. B인(P)
  3. C비소(As)
정답과 해설 보기

정답: C. 비소(As)

n형 불순물 중 비소는 인보다 원자가 크고 확산 계수가 작으며, 질량도 75로 인(31)의 2배 이상이라 이온 주입에서도 얕게 들어갑니다. 또한 고용도가 높아 고농도로 만들 수 있으므로, 얕고 급준하며 저항이 낮은 접합이 요구되는 nMOS의 소스·드레인이나 익스텐션에 사용되어 왔습니다. 인은 확산이 빠르므로 깊은 웰이나, 최근에는 에피택셜 SiP로 사용됩니다. 붕소는 p형입니다.

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