Wat is het belangrijkste doel van het toevoegen van een kleine hoeveelheid chloorhoudend gas zoals waterstofchloride (HCl) bij thermische oxidatie?

Antwoord: C. De invloed van mobiele ionen zoals natrium en metaalverontreiniging onderdrukken

Bij oxidatie in een atmosfeer met enkele procenten waterstofchloride (HCl) worden metaalverontreinigingen zoals natrium en ijzer als vluchtige chloriden verwijderd, of door chloor in de oxidefilm gevangen en geïnactiveerd. Daardoor nemen schommelingen van de drempel door mobiele ionen af en verbeteren betrouwbaarheidskenmerken zoals de diëlektrische doorslagspanning van de oxidefilm. Het vermindert ook oxidatiegeïnduceerde stapelfouten. Omdat het corrosief is, worden tegenwoordig ook andere chloorbronnen gebruikt.