Lithographie

Que signifie le « demi-pas » (half pitch), utilisé comme indicateur de miniaturisation ?

  1. ALa moitié de la longueur d'un côté de la puce
  2. BLa moitié du diamètre du wafer
  3. CLa moitié de la période (pas) constituée d'une ligne et d'un espace d'un motif répétitif
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : C. La moitié de la période (pas) constituée d'une ligne et d'un espace d'un motif répétitif

Dans un motif où lignes et espaces se répètent, la longueur d'une ligne et d'un espace est le pas, et sa moitié est le demi-pas. Si la largeur de ligne et l'espace sont égaux, le demi-pas est égal à la largeur de ligne. Autrefois, le demi-pas de la DRAM servait de nom de génération (par exemple génération 90 nm). La limite de résolution étant déterminée par le pas, la miniaturisation des logiques se compare aujourd'hui par le pas minimal d'interconnexion ou le pas de grille (CPP).

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Lithographie

  1. Comment appelle-t-on les repères placés sur le wafer pour superposer précisément le motif suivant au motif réalisé à l'étape précédente lors de l'exposition ?
  2. Que signifie la « CDU » contrôlée en lithographie ?
  3. Comment appelle-t-on le matériau utilisé pour fabriquer les photomasques, constitué d'un substrat en verre de quartz sur lequel un film opaque, etc. a été préalablement déposé ?
  4. Quelle caractéristique de la méthode qui écrit directement le motif sur la résine du wafer par faisceau d'électrons, sans masque, est correcte ?
  5. Quelle est la méthode correcte de production de la lumière à 13,5 nm dans la source d'un équipement de lithographie EUV ?

Comparatifs sur ce thème