Lithografie
Welke eigenschap van het masker voor EUV-belichting is juist?
- AEen reflecterend masker met een absorberpatroon op een multilayer-spiegel die licht reflecteert
- BEen transmissief masker waarbij licht door glas gaat
- CEr wordt geen masker gebruikt
Antwoord en toelichting tonen
Antwoord: A. Een reflecterend masker met een absorberpatroon op een multilayer-spiegel die licht reflecteert
EUV-licht wordt door vrijwel alle stoffen geabsorbeerd, dus transmissieve maskers kunnen niet worden gebruikt. Een EUV-masker is reflecterend: op een substraat van glas met lage thermische uitzetting wordt een multilayer-spiegel gemaakt door ongeveer 40 paren molybdeen en silicium met een periode van ongeveer 7 nm te stapelen (reflectie ongeveer 65%), en daarop wordt het patroon gemaakt met een absorber op tantaalbasis. Het licht valt ongeveer 6° gekanteld in en het gereflecteerde licht gaat naar het projectie-optiek. Het verminderen van defecten in de multilayer is een grote productie-uitdaging.