Lithografie

Welches Merkmal der bei der EUV-Belichtung verwendeten Masken ist richtig?

  1. AEine reflektierende Maske, bei der auf einem lichtreflektierenden Vielschichtspiegel ein Absorbermuster erzeugt ist
  2. BEine Transmissionsmaske, bei der das Licht durch Glas tritt
  3. CEs wird keine Maske verwendet
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Antwort: A. Eine reflektierende Maske, bei der auf einem lichtreflektierenden Vielschichtspiegel ein Absorbermuster erzeugt ist

Da EUV-Licht von fast allen Stoffen absorbiert wird, sind Transmissionsmasken nicht verwendbar. Die EUV-Maske ist eine reflektierende Maske: Auf einem Substrat aus Glas mit geringer Wärmeausdehnung ist ein Vielschichtspiegel aus etwa 40 Paaren Molybdän und Silizium mit einer Periode von etwa 7 nm (Reflektivität etwa 65 %) aufgebaut, und darauf wird das Muster aus einem Absorber auf Tantalbasis o. Ä. erzeugt. Das Licht fällt um etwa 6° geneigt ein, und das reflektierte Licht wird in die Projektionsoptik geleitet. Eine große Herausforderung der Fertigung ist die Verringerung von Defekten im Vielschichtspiegel.

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