포토리소그래피

리소그래피에서 중첩(오버레이) 정밀도란 무엇인가?

  1. A도포한 레지스트 막 두께의 균일성
  2. B이전 공정에서 만든 패턴에 대해 새 패턴을 얼마나 정확한 위치에 겹칠 수 있는가
  3. C노광량의 편차
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정답: B. 이전 공정에서 만든 패턴에 대해 새 패턴을 얼마나 정확한 위치에 겹칠 수 있는가

LSI는 수십 층의 패턴을 겹쳐 만들기 때문에 각 층을 이전 층에 정확히 정렬해야 하며, 그 어긋남이 작은 정도가 중첩 정밀도입니다. 기준으로 선폭의 1/4~1/5 정도가 요구되고, 첨단 제품에서는 수 nm 이하(원자 십여 개 분량)입니다. 웨이퍼 위의 얼라인먼트 마크로 위치·회전·신축을 측정해 보정하고, 열에 의한 마스크나 웨이퍼의 변형, 이전 공정에서 생긴 왜곡도 계산에 넣어 맞춥니다.

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