Lithografie
Welche Aussage zu OPC (optische Proximity-Korrektur) ist richtig?
- ADer Resist wird dick aufgetragen, um die Auflösung zu erhöhen
- BDie Maske wird gereinigt, um Fremdkörper zu entfernen
- CDas Maskenmuster wird vorab korrigiert, um die Formabweichung nach der Übertragung zu verringern
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Antwort: C. Das Maskenmuster wird vorab korrigiert, um die Formabweichung nach der Übertragung zu verringern
Bei Strukturen nahe der Auflösungsgrenze verkürzen sich Linienenden (Line-End Pull-back), Ecken werden rund und die Linienbreite hängt von der Dichte der umgebenden Strukturen ab, bedingt durch Beugung und Interferenz des Lichts. Bei OPC wird diese Verformung per Simulation vorweggenommen, und am Rand der Maskenstrukturen werden Hilfsstrukturen wie Hammerheads und Serifen hinzugefügt oder Abmessungen fein angepasst. Bei fortgeschrittenen Masken werden für die OPC-Berechnung große Rechner eingesetzt.