Ionenimplantatie

Welke ionenimplanter wordt vooral gebruikt voor implantaties met een gemiddelde dosis, zoals de drempelspanningsinstelling van MOSFET's en wells?

  1. ACMP-apparaat
  2. BMedium-current-ionenimplanter
  3. CElektronenbundelschrijver
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Medium-current-ionenimplanter

Ionenimplanters worden naar dosis- en energiebereik ingedeeld in medium-current (zoals drempelspanningsinstelling en halo-implantatie, 10¹¹-10¹⁴ cm⁻²), high-current (hoge dosis zoals source en drain) en high-energy (zoals diepe wells). Medium-current-apparaten hebben een dunne, stabiele bundel en zijn uitstekend in nauwkeurige regeling van dosisnauwkeurigheid en implantatiehoek (in stappen van 0,1°), en worden gebruikt voor implantaties waarbij een hoekafwijking rechtstreeks de transistoreigenschappen beïnvloedt.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Hoe heet het paar van een vacature en een interstitieel atoom dat in het kristal ontstaat wanneer een geïmplanteerd ion een siliciumatoom wegslaat?
  2. Wat is de belangrijkste reden om de wafer tijdens ionenimplantatie met grote stroom te koelen?
  3. Welke verdeling van de door ionenimplantatie veroorzaakte kristalschade is in het algemeen juist?
  4. Welke methode wordt gewoonlijk gebruikt om dopeerstof in de polysiliciumgate-elektrode van een MOSFET in te brengen om die een lage weerstand te geven?
  5. Hoe heet de methode waarbij n-type dopeerstof in een reeds p-type gebied wordt geïmplanteerd om de netto dopeerconcentratie te verlagen of het geleidingstype om te keren?

Vergelijkingen bij dit onderwerp