離子佈植

主要用於MOSFET的臨界電壓調整或井區等中等劑量佈植的離子佈植機為下列何者?

  1. ACMP機台
  2. B中電流離子佈植機
  3. C電子束微影機台
查看答案與解析

正確答案:B. 中電流離子佈植機

離子佈植機依劑量與能量的範圍,分為中電流(臨界電壓調整或暈環佈植等,10¹¹~10¹⁴ cm⁻²)、高電流(源極、汲極等高劑量)、高能量(深井區等)。中電流機台的離子束細且穩定,因此在劑量精度與佈植角度的精密控制(0.1°單位)上表現優異,用於角度偏差會直接影響電晶體特性的佈植。

  • A. CMP機台是以研磨進行平坦化的機台。
  • B. 正確。用於中等劑量的佈植。
  • C. 電子束微影機台是描繪圖案的機台。
練習這個領域 前往領域頁面

離子佈植的其他題目

  1. 被佈植的離子撞出矽原子時,在晶體中形成的空缺與晶格間原子的組合,稱為什麼?
  2. 在大電流離子佈植期間冷卻晶圓的主要原因,下列何者正確?
  3. 關於離子佈植所產生的晶體損傷分布,下列一般性敘述何者正確?
  4. 為了降低MOSFET多晶矽閘極電極的電阻,一般用來在閘極中導入雜質的方法為下列何者?
  5. 對已是p型的區域佈植n型雜質,以降低淨雜質濃度或使導電型反轉的手法,稱為什麼?

這個領域的比較