Nederlands
Menu

Ionenimplantatie

Welke ionenimplanter wordt gebruikt om, zoals bij de vorming van source en drain, een grote dosis in korte tijd te implanteren?

  1. AHigh-energy-implanter
  2. BHigh-current-implanter
  3. CMedium-current-implanter
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. High-current-implanter

Ionenimplanters worden ingedeeld naar bundelstroom en energie in high-current-, medium-current- en high-energy-types. Voor implantaties met hoge dosis van rond 10¹⁵ ions/cm², zoals source, drain en polysiliciumgates, wordt het high-current-type gebruikt dat bundels van enkele mA tot enkele tientallen mA kan leveren; de sleutel is de techniek om bundels met lage energie en grote stroom zonder uitwaaiering te transporteren. Medium-current wordt gebruikt voor drempelspanningsinstelling en halo, en high-energy voor diepe wells en dergelijke.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Ionenimplantatie

  1. Wat gebeurt er in het algemeen met de laagweerstand van de geïmplanteerde laag als bij dezelfde annealomstandigheden de ionendosis wordt verhoogd?
  2. Waarop moet worden gelet bij het gebruik van fotoresist als masker voor ionenimplantatie?
  3. Welk voordeel van plasma doping, waarbij de wafer rechtstreeks aan een dopeerstofhoudend plasma wordt blootgesteld en ionen met lage energie worden geïmplanteerd, is juist?
  4. Hoe heet het verschijnsel dat bij een gekantelde wafer bij ionenimplantatie delen niet worden geïmplanteerd omdat ze in de schaduw van hoge patronen zoals resist liggen?
  5. Welke eigenschap bepaalt de bovengrens van de concentratie die elektrisch kan worden geactiveerd wanneer dopeerstoffen bij de anneal worden geactiveerd?

Vergelijkingen bij dit onderwerp