離子佈植
在離子佈植機中,利用磁場僅選出目標離子種類的部分為下列何者?
- A離子源
- B終端站(晶圓處理室)
- C質量分析部
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正確答案:C. 質量分析部
離子源中除了目標離子外,也會產生其他離子與分子離子(例如由BF3產生B⁺、BF⁺、BF2⁺等),因此以質量分析部利用磁場使離子的軌道彎曲。彎曲的程度取決於質量與電荷比,所以只有目標離子能通過出口的狹縫而被選出。若混入質量相同的其他元素就會造成污染,需特別注意。選出的離子經加速、掃描後佈植到晶圓。
離子佈植
正確答案:C. 質量分析部
離子源中除了目標離子外,也會產生其他離子與分子離子(例如由BF3產生B⁺、BF⁺、BF2⁺等),因此以質量分析部利用磁場使離子的軌道彎曲。彎曲的程度取決於質量與電荷比,所以只有目標離子能通過出口的狹縫而被選出。若混入質量相同的其他元素就會造成污染,需特別注意。選出的離子經加速、掃描後佈植到晶圓。