Interconnectprocessen

Welke techniek vormt het via zelfuitgelijnd op de bedradingssleuf, zodat het bestand is tegen uitlijnfouten tussen bovenste en onderste bedradingslagen?

  1. ATSV
  2. BZelfuitgelijnd via (self-aligned via)
  3. CLDD
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Zelfuitgelijnd via (self-aligned via)

Bij een bedradingspitch van enkele tientallen nm veroorzaakt een positiefout van het via van slechts enkele nm kortsluiting met de naburige bedrading, of een kleinere afstand waardoor doorslag optreedt. Bij een self-aligned via wordt de hardmask waarmee de bedradingssleuf is bewerkt behouden of wordt boven op de bedrading een laag van een ander materiaal aangebracht, zodat het etsen van het via beperkt blijft tot de breedte van de beoogde bedrading en ook bij een positiefout geen verbinding met de naburige bedrading ontstaat.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Hoe groot is bij een bedrading met een soortelijke weerstand van 2 µΩ·cm, een lengte van 1 mm en een breedte en dikte van elk 100 nm ongeveer de weerstand?
  2. Op welke plaatsen ontstaan bij elektromigratie gemakkelijk voids?
  3. Welke tendens van de bedradingsvertraging ten opzichte van de gatevertraging is juist in LSI's waar schaalverkleining ver is gevorderd?
  4. Welk probleem verdient aandacht bij het bewerken van Low-k-film met etsen of ashing?
  5. Hoe heet de tijdsafhankelijke doorslag van de isolatiefilm tussen bedradingen, die belangrijker wordt naarmate de afstand tussen bedradingen kleiner wordt?