Interconnectprocessen

Welke tendens van de bedradingsvertraging ten opzichte van de gatevertraging is juist in LSI's waar schaalverkleining ver is gevorderd?

  1. ADe bedradingsvertraging is kleiner geworden en kan worden verwaarloosd
  2. BDe bedradingsvertraging en de gatevertraging hebben niets met elkaar te maken
  3. CHet aandeel van de bedradingsvertraging is groter geworden en beperkt de prestaties
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. Het aandeel van de bedradingsvertraging is groter geworden en beperkt de prestaties

Transistors worden door schaalverkleining sneller, maar bij bedrading neemt de weerstand toe doordat de doorsnede krimpt, en neemt de capaciteit niet af doordat de afstand kleiner wordt, zodat de bedradingsvertraging moeilijk kleiner wordt. Vanaf de tweede helft van de jaren 90 (rond de 0,25 µm-generatie) overtreft de vertraging van lange bedrading de gatevertraging, en het aandeel van bedradingsvertraging en -vermogen in de totale schakeling is groter geworden. Daarom zijn verbetering van bedradingsmateriaal en -structuur, het plaatsen van repeaters en slimme plaatsing belangrijk.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Welk probleem verdient aandacht bij het bewerken van Low-k-film met etsen of ashing?
  2. Hoe heet de tijdsafhankelijke doorslag van de isolatiefilm tussen bedradingen, die belangrijker wordt naarmate de afstand tussen bedradingen kleiner wordt?
  3. Wat is de belangrijkste rol van bedrading in een LSI?
  4. Welke omschrijving van „meerlaagse bedrading” in een LSI is juist?
  5. Welke waarde komt het best overeen met de soortelijke weerstand van koper (Cu) bij kamertemperatuur? (bulkwaarde)

Vergelijkingen bij dit onderwerp