Interconnectprocessen

Welk probleem treedt op als Cu onvoldoende is gevuld en er holtes (voids) in het via achterblijven?

  1. AToename van de weerstand, onderbreking en verminderde weerstand tegen elektromigratie
  2. BDe bedrading straalt licht uit
  3. CDe capaciteit tussen bedradingen wordt 0
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Toename van de weerstand, onderbreking en verminderde weerstand tegen elektromigratie

Als er een void in het via zit, wordt het pad voor de stroom smaller en neemt de weerstand toe, en in ernstige gevallen ontstaat een onderbreking. Ook wordt de stroomdichtheid lokaal hoog en vormt de void een kiem voor groei, zodat uitval door elektromigratie vroeg optreedt. Het is lastig omdat het direct na productie niet bij inspectie wordt gevonden en tijdens gebruik tot uitval kan leiden. Void-vrij vullen wordt bereikt met bottom-up vullen door additieven in het plateerbad en met verbetering van de seedlaag.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Hoe verandert de capaciteit tussen naburige bedradingen in dezelfde laag ongeveer als de bedradingsafstand wordt gehalveerd? (benader als parallelle platen)
  2. Welke techniek vormt het via zelfuitgelijnd op de bedradingssleuf, zodat het bestand is tegen uitlijnfouten tussen bovenste en onderste bedradingslagen?
  3. Hoe groot is bij een bedrading met een soortelijke weerstand van 2 µΩ·cm, een lengte van 1 mm en een breedte en dikte van elk 100 nm ongeveer de weerstand?
  4. Op welke plaatsen ontstaan bij elektromigratie gemakkelijk voids?
  5. Welke tendens van de bedradingsvertraging ten opzichte van de gatevertraging is juist in LSI's waar schaalverkleining ver is gevorderd?