Interconnectprocessen

Welk aantal bedradingslagen in geavanceerde logische LSI's komt het best overeen?

  1. A1 laag
  2. B3 lagen
  3. C10 lagen of meer
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. 10 lagen of meer

In geavanceerde logische LSI's wordt boven de transistors meerlaagse bedrading van ongeveer 15 lagen gevormd. In de onderste lagen zit fijne bedrading met een minimale pitch van enkele tientallen nm, in de middelste lagen bedrading voor middellange afstanden en in de bovenste lagen dikke voedings- en globale bedrading. Het aantal processtappen in het bedradingsproces (BEOL) is zo groot dat het vergelijkbaar is met dat voor het maken van transistors en vormt een groot deel van de productiekosten. Met de invoering van backside power delivery verandert de laagopbouw in de toekomst verder.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Interconnectprocessen

  1. Wat is een juist voordeel van metalen zoals ruthenium (Ru), die als alternatief voor Cu voor fijne bedrading worden onderzocht?
  2. Hoe heet de film die op de bovenste laag van de chip wordt gevormd en de interne schakelingen beschermt tegen vocht, verontreiniging en mechanische krassen?
  3. Welk metaal wordt in veel LSI's gebruikt voor de elektrodepads in de bovenste laag waaraan wire bonding wordt uitgevoerd?
  4. Hoe heet de methode waarbij bedradingssleuven en vias gelijktijdig met Cu worden gevuld en met één CMP-stap worden gevormd?
  5. Wat is de juiste functie van de dunne Cu-film die vóór het vullen van Cu door elektrolytisch plateren door sputteren wordt gevormd?