Geavanceerde transistoren (FinFET, GAA)

Welke uitspraak over de kenmerken van materialen zoals molybdeendisulfide (MoS2), dat wordt onderzocht als kanaalmateriaal voor toekomstige extreem kleine transistoren, is juist?

  1. AHet is een metaal van enkele mm dik
  2. BHet is een 2D-materiaal dat zelfs bij een dikte van enkele atoomlagen als halfgeleider werkt
  3. CHet is een isolator die geen elektriciteit geleidt
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Het is een 2D-materiaal dat zelfs bij een dikte van enkele atoomlagen als halfgeleider werkt

Overgangsmetaaldichalcogeniden zoals MoS2 zijn 2D-materialen die zelfs als enkele laag ter dikte van drie atomen (circa 0,65 nm) halfgeleidereigenschappen behouden. Doordat er aan het oppervlak geen openstaande bindingen zijn, daalt de mobiliteit bij dunner worden nauwelijks. Bij silicium daalt de mobiliteit sterk door verstrooiing aan oppervlakteruwheid als het dunner wordt dan enkele nm; MoS2 wordt daarom onderzocht als kandidaat voor extreem dunne kanalen na GAA, met als uitdagingen uniforme afzetting over een groot oppervlak en contacten met lage weerstand.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Geavanceerde transistoren (FinFET, GAA)

  1. Wat is het belangrijkste doel van het epitaxiaal opbouwen van kristal op de vinnen in source en drain van een FinFET?
  2. Welke uitspraak over de basismethode om de contactweerstand tussen metaal en halfgeleider te verlagen is juist?
  3. Welke maatstaf voor de mate van verkleining van logica geeft de werkelijke stand van zaken beter weer dan de generatienaam (nodenaam) van het proces?
  4. Welk element wordt onderzocht met het oog op het doorbreken van de grens van 60 mV/dec van de subthreshold-coëfficiënt?
  5. Wat is de belangrijkste rol van de isolator (inner spacer) tussen gate en source/drain bij de ruimte tussen de sheets van nanosheet-GAA?

Vergelijkingen bij dit onderwerp