Nederlands
Menu

Etsen

Welke etsmethode in onderzoeksfase neutraliseert in plasma gevormde ionen voordat ze de wafer raken, om schade door lading en ultraviolet licht te onderdrukken?

  1. AChemisch-mechanisch polijsten
  2. BNeutralebundel-etsen (neutral beam etching)
  3. CNat etsen
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Neutralebundel-etsen (neutral beam etching)

Bij neutralebundel-etsen verliezen ionen uit het plasma hun lading door een rooster met fijne gaatjes e.d. te passeren, en wordt een gerichte bundel neutrale deeltjes op de wafer gericht. Omdat ze geen lading hebben, treden geen schade en afbuiging door opladen op, en omdat het ultraviolette licht van het plasma door het rooster wordt tegengehouden, ontstaan vrijwel geen kristaldefecten. Men verwacht toepassingen bij schadegevoelige bewerkingen zoals samengestelde halfgeleiders, 2D-materialen en de zeer fijne structuren van GAA.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Wat is de belangrijkste reden waarom coatings van bijvoorbeeld yttriumoxide (Y2O3) worden gebruikt op de binnenwand en onderdelen van plasma-etsapparatuur?
  2. Wat is de belangrijkste rol van de focusring rondom de wafer in plasma-etsapparatuur?
  3. Welke uitspraak over anisotroop etsen is juist?
  4. Welke uitspraak over de 'selectiviteit' bij etsen is juist?
  5. Welke uitspraak over een algemeen kenmerk van nat etsen is juist?

Vergelijkingen bij dit onderwerp