Welk verschijnsel treedt op bij plasma-etsen van patronen met hoge aspectverhouding, waarbij elektronen door de zijwand worden tegengehouden, zodat negatieve lading zich ophoopt in het bovenste deel van het patroon en positieve ionen op de bodem worden afgebogen, wat vormafwijkingen en schade veroorzaakt?

Antwoord: A. Elektronenschaduwingseffect (electron shading)

Elektronen vliegen in willekeurige richtingen, dus ze dringen moeilijk diep in een smal patroon door en negatieve lading hoopt zich op aan de bovenste zijwanden van het patroon. Ionen daarentegen worden door het elektrische veld loodrecht versneld en bereiken de bodem, die positief wordt opgeladen. Door deze ladingsscheefheid worden latere ionen afgeremd en afgebogen, wat vertraging van het etsen op de bodem, notching, twisting en schade aan de gate-isolator veroorzaakt. Men pakt het aan met onder meer gepulst plasma, waarmee negatieve ionen en elektronen worden aangevoerd om te neutraliseren.