Nederlands
Menu

Etsen

Welke uitspraak over de 'selectiviteit' bij etsen is juist?

  1. ADe verhouding van de laagdikte vóór en na het etsen
  2. BDe verhouding van de etssnelheid in het midden en aan de rand van de wafer
  3. CDe verhouding van de etssnelheid van de te etsen film tot die van het masker of de onderliggende film
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: C. De verhouding van de etssnelheid van de te etsen film tot die van het masker of de onderliggende film

Selectiviteit is de verhouding tussen de etssnelheid van de film die moet worden weggeëtst en die van films die niet mogen worden aangetast (masker of ondergrond). Bij het etsen van een gate is bijvoorbeeld soms een selectiviteit van 100 of meer ten opzichte van de ondergrond nodig om de gate-isolator van enkele nm dik te behouden. Hoe hoger de selectiviteit, hoe dunner het masker kan zijn en hoe minder de ondergrond wordt aangetast. De spreiding in snelheid over de wafer heet 'uniformiteit'.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Etsen

  1. Welke uitspraak over een algemeen kenmerk van nat etsen is juist?
  2. Welke uitspraak over reactief ionenetsen (RIE) is juist?
  3. Welke methode wordt vaak gebruikt voor eindpuntdetectie bij droog etsen?
  4. Wat is de aspectverhouding van een door etsen gevormd gat of een gevormde sleuf?
  5. Hoe heet het verschijnsel dat de etssnelheid afneemt naarmate het patroon smaller en dieper wordt?

Vergelijkingen bij dit onderwerp