Welke uitspraak over een algemeen kenmerk van nat etsen is juist?

Antwoord: B. Het verloopt over het algemeen isotroop en tast gemakkelijk ook onder het masker aan

Nat etsen lost de film op via een chemische reactie met een chemische oplossing en verloopt daarom over het algemeen in alle richtingen gelijk (isotroop), waarbij ook onder het masker ongeveer evenveel als de laagdikte wordt aangetast (zijwaarts etsen, zogenoemde side-etch). Voordelen zijn de eenvoudige apparatuur, de mogelijkheid veel wafers tegelijk te verwerken en een gemakkelijk hoge selectiviteit door de chemische reactie. Voor fijne patronen wordt droog etsen gebruikt, maar voor het geheel verwijderen van films en voor reiniging blijft nat etsen belangrijk.