플라즈마에서 생성한 이온을 중성화한 뒤 웨이퍼에 쬐어, 대전이나 자외선에 의한 손상을 억제하며 가공하는 연구 단계의 식각 방법은?

정답: B. 중성 입자 빔 식각

중성 입자 빔 식각에서는 플라즈마 속의 이온을 가는 구멍이 뚫린 그리드 등에 통과시켜 전하를 잃게 하고, 방향이 정렬된 중성 입자를 웨이퍼에 쬡니다. 전하를 갖지 않으므로 대전에 의한 손상이나 휘어짐이 일어나지 않고, 플라즈마에서 나오는 자외선도 그리드로 차단되어 결정 결함이 거의 생기지 않습니다. 화합물 반도체, 2차원 재료, GAA의 극미세 구조 등 손상에 약한 가공에의 응용이 기대됩니다.

• A. 화학 기계 연마는 연마에 의한 평탄화입니다.
• B. 맞습니다. 중성화한 입자로 가공하는 방법입니다.
• C. 습식 식각은 약액에 의한 가공으로 빔은 사용하지 않습니다.