Welches Phänomen beim Plasmaätzen von Strukturen mit hohem Aspektverhältnis führt dazu, dass Elektronen durch die Seitenwände abgeschirmt werden, sich oben an der Struktur negative Ladung ansammelt und positive Ionen am Boden abgelenkt werden, was Formabweichungen und Schäden verursacht?

Antwort: A. Elektronen-Shading-Effekt

Da Elektronen in verschiedenste Richtungen fliegen, dringen sie schwer in schmale Strukturen ein, und an den oberen Seitenwänden der Struktur sammelt sich negative Ladung. Ionen dagegen werden im elektrischen Feld senkrecht beschleunigt und erreichen den Boden, den sie positiv aufladen. Durch diese Ladungsasymmetrie werden nachfolgende Ionen abgebremst und abgelenkt, was verzögertes Ätzen am Boden, Notching, Twisting und Schäden am Gate-Dielektrikum verursacht. Gegenmaßnahmen sind z. B. Verfahren, die mit Pulsplasma negative Ionen und Elektronen heranführen und neutralisieren.