식각
고종횡비 패턴의 플라즈마 식각에서 전자가 측벽에서 차단되어 패턴 상부에 음전하가 쌓이고, 양이온이 바닥에서 휘어 형상 이상이나 손상을 일으키는 현상은?
- A전자 셰이딩 효과
- B터널 효과
- C압전 효과
정답과 해설 보기
정답: A. 전자 셰이딩 효과
전자는 방향이 제각각으로 날아오기 때문에 좁은 패턴 깊숙이 들어가기 어렵고, 패턴 상부의 측벽에 음전하가 쌓입니다. 한편 이온은 전계로 수직 가속되어 바닥까지 닿아 바닥을 양으로 대전시킵니다. 이 전하의 쏠림으로 나중에 오는 이온이 감속·편향되어 바닥 식각의 지연, 노칭, 비틀림, 게이트 절연막 손상의 원인이 됩니다. 펄스 플라즈마로 음이온이나 전자를 보내 중화하는 방법 등으로 대책을 세웁니다.
- A. 맞습니다. 전자가 차단되어 대전의 쏠림이 생기는 현상입니다.
- B. 터널 효과는 입자가 장벽을 통과하는 양자역학적 현상입니다.
- C. 압전 효과는 압전체의 힘과 전하의 관계입니다.