Epitaxiale groei

Welk bereik is gebruikelijk voor de dikte van de epitaxiale laag van siliciumepiwafers voor LSI en vermogenscomponenten?

  1. ACirca enkele nm
  2. BCirca enkele µm tot enkele tientallen µm
  3. CCirca enkele mm
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. Circa enkele µm tot enkele tientallen µm

De epilaag voor logica en beeldsensoren is circa enkele µm dik; voor vermogenscomponenten met hoge spanning wordt zij afhankelijk van de doorslagspanning dikker, enkele tientallen µm bij Si in de 600 V-klasse en bij SiC in de 10 kV-klasse soms meer dan 100 µm. Vergeleken met de wafer zelf, circa 775 µm dik, is het een zeer dunne laag. Epilagen van samengestelde halfgeleiders, zoals de basis van HBT's of kwantumputten, zijn daarentegen enkele nm tot enkele tientallen nm dik, zodat het dikteverschil per toepassing meer dan 4 ordes van grootte kan bedragen.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Wat is de belangrijkste rol van de grote hoeveelheid waterstof (H2) die samen met het grondstofgas wordt toegevoerd bij epitaxiale groei van silicium?
  2. Welke methode wordt gebruikt om een dikke GaN-laag snel te laten groeien om een vrijstaand GaN-substraat te maken?
  3. Welke waarde komt het dichtst bij de gangbare dichtheid van doorlopende dislocaties die in GaN op een saffiersubstraat tot aan het filmoppervlak doordringen?
  4. Wat is het belangrijkste doel van een laag met hoge concentratie (buried layer) onder de epitaxiale laag bij bijvoorbeeld bipolaire transistoren?
  5. Welke temperatuur komt het dichtst bij de gangbare groeitemperatuur van epitaxiale groei (CVD) van SiC?