Epitaxiale groei

Wat is het belangrijkste doel van een laag met hoge concentratie (buried layer) onder de epitaxiale laag bij bijvoorbeeld bipolaire transistoren?

  1. ADe serieweerstand van de collector verlagen
  2. BDe basis dikker maken
  3. CDe epilaag een hoge weerstand geven
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. De serieweerstand van de collector verlagen

Bij een verticale bipolaire transistor stroomt de collectorstroom zijwaarts langs de onderkant van de epilaag naar de collectorelektrode aan het oppervlak. Als vóór de epitaxiale groei in het substraat met arseen of antimoon een n⁺-laag met hoge concentratie wordt gevormd en ingebed, daalt de weerstand van dit pad en verbeteren de verzadigingsspanning en de hoogfrequente eigenschappen van de transistor. Arseen en antimoon, die moeilijk diffunderen, worden gebruikt om de hoeveelheid die door de warmte tijdens epitaxiale groei omhoog sijpelt te beperken.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Welke temperatuur komt het dichtst bij de gangbare groeitemperatuur van epitaxiale groei (CVD) van SiC?
  2. Welk reactortype is de hoofdstroom bij epitaxiale groei van silicium op 300 mm-wafers?
  3. Wat is het doel van een 'graded buffer layer' (laag waarvan de samenstelling geleidelijk verandert) bij heteroepitaxiale groei van materialen met sterk verschillende roosterconstanten?
  4. Wat betekent een smalle halfwaardebreedte van de piek in de rocking curve van röntgendiffractie bij de beoordeling van de kristalkwaliteit van een epitaxiale laag?
  5. Wat betekent de 'V/III-verhouding' die bij de groei van GaN met MOCVD als voorwaarde wordt beheerst?