Wat is de belangrijkste rol van de grote hoeveelheid waterstof (H2) die samen met het grondstofgas wordt toegevoerd bij epitaxiale groei van silicium?

Antwoord: C. Het is een draaggas dat het grondstofgas transporteert en een reducerende atmosfeer vormt die het oppervlak schoon houdt

Bij epitaxiale groei van silicium wordt het grondstofgas, zoals trichloorsilaan, verdund met een grote hoeveelheid waterstof naar de reactor gevoerd. Waterstof werkt als draaggas dat de grondstof transporteert en neemt als reductiemiddel deel aan de reactie. In de reducerende atmosfeer voorkomt het oxidatie van het oppervlak en voert het het bij de reactie gevormde chloor als waterstofchloride af. Ook houdt waterstof het oppervlak schoon door de openstaande bindingen van de siliciumatomen aan het oppervlak af te sluiten.