Epitaxiale groei

Welk voordeel van een wafer waarop een p-type epitaxiale laag met lage concentratie op een p+-substraat is gegroeid (p/p+-epiwafer) is juist?

  1. ADe wafer wordt transparant
  2. BDe kristalkwaliteit van het oppervlak is goed en latch-up in CMOS wordt gemakkelijker onderdrukt
  3. CEtsen is niet meer nodig
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: B. De kristalkwaliteit van het oppervlak is goed en latch-up in CMOS wordt gemakkelijker onderdrukt

De epilaag heeft minder defecten, zoals zuurstofprecipitaten en COP's, dan het oppervlak van een CZ-wafer, waardoor de kwaliteit van het oppervlak waarop de componenten worden gemaakt beter is. Met een p+-substraat met lage weerstand eronder kan de stroom van de parasitaire thyristor bovendien gemakkelijk naar het substraat wegvloeien en ontstaat nauwelijks potentiaalverschil tussen wells, zodat latch-up in CMOS gemakkelijker wordt onderdrukt. Een substraat met hoge concentratie helpt ook bij het gettern van metaalverontreinigingen en wordt veel gebruikt voor microcontrollers en beeldsensoren.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Welke uitspraak over de kritische laagdikte bij heteroepitaxiale groei is juist?
  2. Wat is het belangrijkste doel van het verhitten van de wafer in een waterstofatmosfeer bij hoge temperatuur vlak vóór de epitaxiale groei van silicium?
  3. Waarom is de epitaxiale laag belangrijk bij de fabricage van SiC-vermogenscomponenten?
  4. Bij epitaxiale groei met CVD hangt de groeisnelheid in het gebied met relatief lage temperatuur sterk van de temperatuur af. Welke verklaring is juist?
  5. Welk veelvoorkomend kristaldefect in epitaxiale lagen is een verstoring van de stapelvolgorde van de atoomvlakken?