Epitaxiale groei

Hoe heet het verschijnsel dat tijdens epitaxiale groei onzuiverheden uit bijvoorbeeld het substraat via de gasfase in de gegroeide laag worden opgenomen?

  1. AAuto-doping
  2. BGettering
  3. CElektromigratie
Antwoord en toelichting tonen

Antwoord: A. Auto-doping

Auto-doping is het verschijnsel dat onzuiverheden uit een substraat met een hoge onzuiverheidsconcentratie, of uit de achter- en zijkant daarvan, verdampen en via het gas in de groeiende laag worden opgenomen. Het treedt vooral in het begin van de groei op, waardoor de onzuiverheidsconcentratie van de epilaag van de ontwerpwaarde afwijkt en de concentratieovergang aan het grensvlak minder abrupt wordt. Tegenmaatregelen zijn onder meer het afdekken van de achterkant van het substraat met oxide of polysilicium, groei bij verlaagde druk en het vooraf met gas verdrijven van onzuiverheden.

Dit onderwerp oefenen Naar de onderwerppagina

Meer vragen over Epitaxiale groei

  1. Welk voordeel van een wafer waarop een p-type epitaxiale laag met lage concentratie op een p+-substraat is gegroeid (p/p+-epiwafer) is juist?
  2. Welke uitspraak over de kritische laagdikte bij heteroepitaxiale groei is juist?
  3. Wat is het belangrijkste doel van het verhitten van de wafer in een waterstofatmosfeer bij hoge temperatuur vlak vóór de epitaxiale groei van silicium?
  4. Waarom is de epitaxiale laag belangrijk bij de fabricage van SiC-vermogenscomponenten?
  5. Bij epitaxiale groei met CVD hangt de groeisnelheid in het gebied met relatief lage temperatuur sterk van de temperatuur af. Welke verklaring is juist?