Wat is de belangrijkste reden dat reiniging van wafers belangrijk is in het productieproces van halfgeleiders?

Antwoord: A. Omdat zelfs weinig deeltjes of metaalverontreiniging kortsluiting of onderbreking van bedrading en variatie van eigenschappen kunnen veroorzaken en zo de yield verlagen

Bij fijne LSI's kan al één deeltje van enkele tientallen nm, vergelijkbaar met de afstand tussen bedrading, kortsluiting of onderbreking veroorzaken en kan zelfs een zeer geringe verontreiniging met metalen of organische stoffen toename van lekstroom of variatie van de drempelspanning veroorzaken. Omdat één chip miljarden transistoren heeft, kan zelfs één defect tot uitval leiden. Reiniging die vóór en na elke processtap verontreiniging verwijdert is daarom onmisbaar en vormt de basisstap die de yield ondersteunt.