CMP와 세정
반도체 제조 공정에서 웨이퍼 세정이 중요하다고 하는 주된 이유는?
- A미세한 파티클이나 금속 등의 오염만으로도 배선의 단락이나 단선, 특성 변동을 일으켜 수율을 떨어뜨리기 때문
- B웨이퍼의 색을 맞추기 위해
- C웨이퍼를 가볍게 하기 위해
정답과 해설 보기
정답: A. 미세한 파티클이나 금속 등의 오염만으로도 배선의 단락이나 단선, 특성 변동을 일으켜 수율을 떨어뜨리기 때문
미세한 LSI에서는 배선 간격과 비슷한 수십 nm 크기의 파티클 하나만으로도 단락이나 단선이 생기고, 극미량의 금속·유기물 오염도 누설 전류 증가나 문턱 전압 변동을 일으킵니다. 칩 하나에 수십억 개의 트랜지스터가 있으므로 결함이 하나만 있어도 불량이 될 수 있습니다. 따라서 각 공정 전후로 오염을 제거하는 세정이 필수적이며, 수율을 뒷받침하는 기본 공정입니다.
- A. 올바릅니다. 미세한 오염도 불량의 원인이 됩니다.
- B. 색을 맞추기 위한 것이 아닙니다.
- C. 무게를 바꾸기 위한 것이 아닙니다.