공정 재료(가스와 케미칼)

실리콘 산화막(SiO2)의 건식 식각에 주로 쓰이는 가스는 무엇입니까?

  1. A질소 가스만
  2. B헬륨 가스만
  3. CCF4나 C4F8 같은 플루오로카본계 가스
정답과 해설 보기

정답: C. CF4나 C4F8 같은 플루오로카본계 가스

SiO2의 건식 식각에는 CF4나 C4F8 같은 플루오로카본 가스의 플라즈마를 사용합니다. 불소가 Si와 결합하여 휘발성 SiF4가 되고, 탄소는 막 속의 산소와 결합하여 CO나 CO2가 되어 배기됩니다. 질소나 헬륨만으로는 화학 반응이 일어나지 않아 막을 깎을 수 없습니다. 이 가스들은 지구온난화지수가 CO2의 수천 배 이상으로 크므로, 사용 후에는 제해 장치로 분해한 뒤 배출합니다.

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