산화와 확산

실리콘이 MOS 소자의 재료로 널리 사용되어 온 큰 이유 중 하나로 올바른 것은?

  1. A직접 천이형이라 효율적으로 발광하기 때문
  2. B전자 이동도가 모든 반도체 중에서 가장 높기 때문
  3. C열산화로 계면 준위가 적은 양질의 절연막(SiO2)을 쉽게 형성할 수 있기 때문
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정답: C. 열산화로 계면 준위가 적은 양질의 절연막(SiO2)을 쉽게 형성할 수 있기 때문

실리콘은 열산화만 하면 절연성이 높고 계면 준위가 10¹⁰ cm⁻²eV⁻¹ 정도로 매우 적은 SiO2 막을 형성할 수 있습니다. GeO2는 물에 녹고 화합물 반도체에서는 좋은 자연 산화막이 만들어지지 않는 것과 비교하면, 이 우수한 MOS 계면은 실리콘의 큰 강점이며, 1960년경 MOSFET이 실용화된 이래 LSI 재료로 계속 선택되어 온 이유 중 하나입니다. 지각에 풍부하게 존재한다는 것도 장점입니다.

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