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마스크를 쓰지 않고 전자빔으로 웨이퍼 위의 레지스트에 직접 패턴을 그리는 방식의 특징으로 올바른 것은?
- A양산에서 가장 빠른 방식이다
- B마스크가 필요 없고 매우 미세한 패턴을 그릴 수 있지만, 묘화에 시간이 걸려 대량 생산에는 맞지 않는다
- C패턴을 그릴 수 없다
정답과 해설 보기
정답: B. 마스크가 필요 없고 매우 미세한 패턴을 그릴 수 있지만, 묘화에 시간이 걸려 대량 생산에는 맞지 않는다
전자빔 직접 묘화는 파장이 nm 이하인 전자를 사용하므로 빛의 회절 한계가 없어, 마스크 없이 10 nm 이하의 매우 미세한 패턴을 형성할 수 있습니다. 그러나 패턴을 한 붓 그리기처럼 하나씩 그리기 때문에 300 mm 웨이퍼 1장에 며칠씩 걸리기도 하여 대량 생산에는 맞지 않습니다. 연구 개발, 소량 시제품, 포토마스크 제작, 나노임프린트 틀 제작 등에 사용됩니다.
- A. 한 붓 그리기처럼 그리기 때문에 양산 속도는 느려집니다.
- B. 올바릅니다. 마스크는 필요 없지만 묘화에 시간이 걸립니다.
- C. 전자빔으로 패턴을 그릴 수 있습니다.