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위상 시프트 마스크의 목적으로 올바른 것은?
- A인접한 개구부를 통과하는 빛의 위상을 바꾸고 간섭을 이용하여 해상도나 콘트라스트를 높인다
- B마스크를 가볍게 한다
- C노광의 광량을 2배로 한다
정답과 해설 보기
정답: A. 인접한 개구부를 통과하는 빛의 위상을 바꾸고 간섭을 이용하여 해상도나 콘트라스트를 높인다
위상 시프트 마스크는 마스크의 일부를 통과하는 빛의 위상을 180° 어긋나게 하여, 인접한 패턴에서 오는 빛의 경계에서 진폭을 서로 상쇄시켜 어두운 부분을 더 어둡게 하고 패턴 경계의 콘트라스트를 높입니다. 이웃한 패턴의 위상을 번갈아 반전시키는 레벤슨형과, 차광부를 빛을 약간 투과시키는 위상 반전막(MoSi 등)으로 만든 하프톤형이 있으며, 하프톤형은 ArF 노광에서 널리 쓰입니다.