식각

Cu 배선을 건식 식각으로 직접 가공하기 어려운 이유로 올바른 것은?

  1. ACu는 전기를 통하지 않기 때문
  2. BCu가 너무 무르기 때문
  3. CCu의 할로젠화물은 휘발하기 어려워 반응 생성물을 제거할 수 없기 때문
정답과 해설 보기

정답: C. Cu의 할로젠화물은 휘발하기 어려워 반응 생성물을 제거할 수 없기 때문

알루미늄은 염소와 반응하여 휘발성의 염화알루미늄이 되므로 건식 식각이 가능하지만, 구리의 염화물 등은 수백 ℃ 이상으로 하지 않으면 휘발하지 않고 표면에 남아 버립니다. 그래서 Cu 배선은 식각을 사용하지 않고, 절연막에 홈을 파고 구리를 매립한 뒤 CMP로 여분을 깎아내는 다마신법으로 만듭니다. 최근에는 미세 배선용으로 식각으로 가공할 수 있는 루테늄 등의 금속도 검토되고 있습니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

식각의 다른 문제

  1. 게이트 식각에서 하지 절연막과의 경계 부근의 패턴 측면이 옆으로 파이는 현상을 무엇이라고 부르는가?
  2. 건식 식각 후에 패턴 측벽 등에 남은 반응 생성물(폴리머)을 제거하는 이유로 올바른 것은?
  3. 산화막을 식각하여 아래에 있는 질화막에서 멈추게 하고 싶을 때 필요한 것은?
  4. 반도체 제조에서 식각의 역할로 올바른 것은?
  5. 건식 식각에서 사용되는 「플라즈마」에 대한 설명으로 올바른 것은?

이 분야의 비교