식각

산화막을 식각하여 아래에 있는 질화막에서 멈추게 하고 싶을 때 필요한 것은?

  1. A낮은 선택비
  2. B등방성 식각
  3. C질화막에 대한 산화막의 높은 식각 선택비
정답과 해설 보기

정답: C. 질화막에 대한 산화막의 높은 식각 선택비

질화막에서 멈추게 하려면 산화막은 빠르게 식각하고 질화막은 거의 식각하지 않는 조건이 필요합니다. C4F6나 C4F8처럼 탄소 비율이 높은 플루오로카본 가스를 사용하면, 질화막 위에는 폴리머가 쌓여 반응을 멈추고 산화막 위에서는 산소가 폴리머를 소비하여 식각이 진행되므로 질화막에 대해 수십 이상의 선택비를 얻을 수 있습니다. 자기 정렬 컨택트 형성 등에서 중요합니다.

이 분야 연습하기 분야로 돌아가기

식각의 다른 문제

  1. 반도체 제조에서 식각의 역할로 올바른 것은?
  2. 건식 식각에서 사용되는 「플라즈마」에 대한 설명으로 올바른 것은?
  3. 식각 속도가 100 nm/min인 조건에서 3분간 식각했을 때, 깎이는 막의 두께는 얼마인가?
  4. 습식 식각에서 약액의 온도를 높였을 때 식각 속도의 변화로 일반적인 것은?
  5. 용량 결합형 등의 플라즈마 장치에서 웨이퍼 쪽 전극이 자연스럽게 음의 직류 전위를 갖게 되어 이온을 웨이퍼 방향으로 가속하는 현상을 무엇이라고 부르는가?

이 분야의 비교