박막 증착(CVD와 PVD)
반응성 스퍼터에서 반응 가스 유량을 지나치게 늘렸을 때, 타깃 표면이 화합물로 덮여 성막 속도가 급격히 떨어지는 현상을 무엇이라고 합니까?
- A타깃 피독(포이즈닝)
- B블루밍
- C스틱션
정답과 해설 보기
정답: A. 타깃 피독(포이즈닝)
반응성 스퍼터에서는 반응 가스가 늘어나면 타깃 표면 자체가 질화물이나 산화물로 덮입니다. 화합물은 금속보다 스퍼터 수율이 낮기 때문에 성막 속도가 몇 분의 1로 급격히 떨어집니다. 이것이 피독(포이즈닝)이며, 가스를 줄여도 표면의 화합물이 바로 제거되지 않기 때문에 가스 유량에 대해 성막 속도가 히스테리시스를 보입니다. 플라즈마 발광을 모니터링하여 가스를 제어하고 천이 영역에서 안정시키는 방법 등으로 대처합니다.