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Matériaux de procédé (gaz et produits chimiques)

Quel matériau est utilisé comme substrat des photomasques pour la lithographie ArF ?

  1. ALe verre de quartz synthétique
  2. BLe verre sodocalcique
  3. CL'aluminium
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Réponse : A. Le verre de quartz synthétique

En lithographie ArF (193 nm), le substrat de masque est en verre de quartz synthétique, qui transmet bien les courtes longueurs d'onde et se dilate peu ; le motif y est formé par une couche opaque de chrome ou un film à décalage de phase. Le verre sodocalcique absorbe l'ultraviolet profond et se dilate beaucoup : il est inutilisable. En EUV, aucun matériau ne transmettant la lumière, le masque est réfléchissant : un multicouche est formé sur un verre à très faible dilatation thermique, quasi nulle.

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