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Oxydation et diffusion

Quel composé a été utilisé comme source de diffusion liquide pour introduire du phosphore dans le silicium par diffusion thermique ?

  1. AArsine (AsH3)
  2. BOxychlorure de phosphore (POCl3)
  3. CDiborane (B2H6)
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Réponse : B. Oxychlorure de phosphore (POCl3)

L’oxychlorure de phosphore (POCl3) est liquide à température ambiante ; vaporisé par bullage d’azote et envoyé dans le four avec de l’oxygène, il forme à la surface du silicium une couche de verre au phosphore (PSG), d’où le phosphore diffuse. Permettant de traiter plusieurs centaines de plaquettes à la fois à faible coût, il reste largement utilisé, notamment pour former la couche émettrice de type n des cellules solaires en silicium cristallin. Pour le bore, on utilise BBr3, et comme sources gazeuses la phosphine ou le diborane.

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