산화와 확산

실리콘 열산화막의 대표적인 용도로 올바른 것은?

  1. A배선의 도체
  2. B게이트 절연막이나 소자 간 분리, 불순물을 넣을 위치를 정하는 마스크
  3. C빛을 내는 발광층
정답과 해설 보기

정답: B. 게이트 절연막이나 소자 간 분리, 불순물을 넣을 위치를 정하는 마스크

열산화로 만든 SiO2는 절연성이 높고 실리콘과의 계면 품질도 좋아, MOSFET의 게이트 절연막, 소자와 소자를 전기적으로 분리하는 분리(LOCOS, STI의 라이너), 이온 주입이나 확산의 마스크, 주입 시의 표면 보호 등에 사용되어 왔습니다. 선단 게이트에서는 High-k 막으로 대체되었지만, 그 아래의 계면층에는 지금도 매우 얇은 SiO2가 사용됩니다.

  • A. SiO2는 절연체이므로 배선의 도체로 쓸 수 없습니다.
  • B. 올바릅니다. 절연막, 분리, 마스크로 사용됩니다.
  • C. SiO2는 절연체이며 발광층으로는 사용하지 않습니다.
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