Lithographie
Quel effet attend-on de la combinaison de l'autoassemblage dirigé (DSA) avec la lithographie EUV ?
- ALes masques EUV deviennent inutiles
- BLa sensibilité de la résine augmente, si bien que la puissance de la source EUV n'est plus nécessaire
- CEn se servant des motifs EUV comme guides, le motif est ramené à une période régulière, ce qui réduit les variations de largeur de ligne et de rugosité dues aux effets stochastiques
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Réponse : C. En se servant des motifs EUV comme guides, le motif est ramené à une période régulière, ce qui réduit les variations de largeur de ligne et de rugosité dues aux effets stochastiques
En lithographie EUV, chaque exposition utilise peu de photons, si bien que des effets stochastiques font varier la largeur des lignes et la rugosité de leurs bords. En autoassemblage dirigé (DSA), la période du motif du copolymère à blocs est fixée par le matériau ; on s'attend donc à ce que l'autoassemblage sur des motifs guides réalisés en EUV atténue ces variations. L'imec, Intel et d'autres publient des résultats depuis le début des années 2020, mais réduire les défauts à des niveaux extrêmement bas reste le défi de la production en volume.