Quel problème survient fréquemment lors du retrait d'une résine photosensible ayant subi une implantation ionique à forte dose ?

Réponse : B. La surface forme une couche carbonisée et durcie, qui éclate facilement (popping) sous l'effet des gaz internes en cas de chauffage brusque lors d'un ashing classique

La résine ayant subi une implantation à forte dose perd l'hydrogène de sa surface, se carbonise et forme une croûte dure de quelques dizaines de nm. Un ashing direct à haute température fait éclater cette croûte sous l'effet des gaz dégagés par la résine molle sous-jacente (popping), générant résidus et particules. Il faut procéder par étapes à partir de basse température ou retirer d'abord la croûte par un plasma à base d'hydrogène ; avec l'élimination des résidus, le décapage après implantation est l'une des étapes difficiles.