이온 주입
고도즈 이온 주입을 받은 포토레지스트를 제거할 때 문제가 되기 쉬운 것은 무엇인가?
- A레지스트가 투명해진다
- B표면이 탄화·경화된 층이 되어, 통상적인 애싱에서 급히 가열하면 내부 가스로 파열(포핑)하기 쉽다
- C레지스트가 물에 녹아 없어진다
정답과 해설 보기
정답: B. 표면이 탄화·경화된 층이 되어, 통상적인 애싱에서 급히 가열하면 내부 가스로 파열(포핑)하기 쉽다
고도즈 주입을 받은 레지스트는 표면의 수소가 빠져 탄화되어 두께 수십 nm의 단단한 껍질(크러스트)이 됩니다. 그대로 고온에서 애싱하면 껍질 아래의 부드러운 레지스트에서 나오는 가스로 껍질이 파열되어(포핑) 잔사나 파티클의 원인이 됩니다. 저온에서 단계적으로 처리하거나 수소계 플라즈마로 껍질을 먼저 제거하는 등의 방법이 필요하며, 잔사 제거까지 포함해 주입 후의 박리는 어려운 공정 중 하나입니다.
- A. 투명해지는 것이 문제가 아닙니다.
- B. 올바릅니다. 경화된 껍질과 파열이 문제가 됩니다.
- C. 주입을 받은 레지스트는 오히려 제거하기 어려워집니다.