Procédés d'interconnexion

Quelle combinaison des principales propriétés exigées d'un matériau d'interconnexion de LSI est correcte ?

  1. ANe conduire ni l'électricité ni la chaleur
  2. BUne faible résistance, une bonne résistance à la dégradation par le courant (électromigration) et une bonne aptitude à l'usinage
  3. CUne bonne transparence à la lumière et une grande souplesse
Afficher la réponse et l'explication

Réponse : B. Une faible résistance, une bonne résistance à la dégradation par le courant (électromigration) et une bonne aptitude à l'usinage

Un matériau d'interconnexion doit présenter une faible résistance pour réduire le délai des signaux et les pertes de puissance, une fiabilité lui permettant de résister à de fortes densités de courant de l'ordre du MA/cm², une faible diffusion dans les isolants et le silicium, une bonne aptitude à l'usinage et au remplissage de motifs fins, et une tenue aux températures des procédés. Le compromis entre ces exigences a fait évoluer les matériaux de l'Al au Cu, puis vers le Co, le Ru, le Mo, etc. pour les parties les plus fines.

S'entraîner sur ce thème Retour au thème

Autres questions sur Procédés d'interconnexion

  1. Quel est le rôle fondamental de l'isolant intercouche qui remplit l'espace entre les interconnexions ?
  2. Quelle est la principale raison pour laquelle on a utilisé pour les interconnexions en aluminium un alliage Al-Cu contenant environ 0,5 % de cuivre ?
  3. Comment appelle-t-on le phénomène par lequel un film de Cu électrodéposé voit ses grains grossir avec le temps et sa résistivité baisser, simplement en restant à température ambiante ?
  4. Quel est le principal objectif de la pratique de conception consistant à placer, là où c'est possible, deux vias ou plus au lieu d'un seul pour relier les couches d'interconnexion ?
  5. Quel terme désigne la partie des contacts et interconnexions locales reliant les transistors (côté FEOL) à l'interconnexion multicouche ?